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		<title>DDR5 &#8211; Samsung Newsroom Korea</title>
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		<description>What's New on Samsung Newsroom</description>
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				<title>[영상] DDR5, 세상을 또 한 번 업그레이드하다</title>
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				<pubDate>Wed, 06 Apr 2022 12:00:23 +0000</pubDate>
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									<description><![CDATA[DDR5 시대가 눈앞으로 다가왔다. 5G, 인공지능에 이어 증강현실과 메타버스까지 고속 대용량 데이터 처리가 관건인 서버 환경에서 고성능 컴퓨팅은 필수 요소가 됐다. 여기에 글로벌 빅테크 기업들의 데이터 센터 서버 확대 추세까지 더해져, DDR5는 미래형 첨단 산업의 키를 쥔‘게임 체인저’로 급부상하고 있다. 전 세계 D램 시장을 바꿔 놓은 삼성전자는 일찍이 DDR5 개발로 IT 산업 베이스의 세대교체를 주도하고 […]]]></description>
																<content:encoded><![CDATA[<p>DDR5 시대가 눈앞으로 다가왔다<span>. 5G, </span>인공지능에 이어 증강현실과 메타버스까지 고속 대용량 데이터 처리가 관건인 서버 환경에서 고성능 컴퓨팅은 필수 요소가 됐다<span>. </span>여기에 글로벌 빅테크 기업들의 데이터 센터 서버 확대 추세까지 더해져<span>, DDR5</span>는 미래형 첨단 산업의 키를 쥔<span>‘</span>게임 체인저<span>’</span>로 급부상하고 있다<span>. </span></p>
<p>전 세계<span> D</span>램 시장을 바꿔 놓은 삼성전자는 일찍이 <span>DDR5 </span>개발로 <span>IT </span>산업 베이스의 세대교체를 주도하고 있다<span>. DDR5 D</span>램은 <span>2013</span>년도에 출시한 <span>DDR4</span>를 잇는 <span>D</span>램 반도체 규격으로<span>, DDR4</span>보다 약 <span>2</span>배 빠른 <span>4800Mbps </span>이상의 데이터 처리 속도와 약 <span>4</span>배 커진 최대 <span>512GB</span><a href="#_ftn1" name="_ftnref1"><sup>[1]</sup></a>의 용량을 자랑한다<span>. </span>이러한 차세대 고성능 메모리는 클라우드와 인공지능<span>, </span>빅데이터<span>, </span>자율주행 등으로 급증하는 방대한 양의 데이터 정보를 빠르게 처리할 수 있다<span>. </span>그뿐만 아니라<span>, </span>올해 초 <span>DDR5</span>를 지원하는 <span>CPU</span>가 시장에 출시되어 게이밍<span> PC</span>부터 메인<span> PC </span>시장까지 컴퓨팅 환경에도 큰 변화를 이끌어낼 것으로 보인다<span>.</span></p>
<p>DDR5는<span> DDR4</span>와 달리 전력관리 반도체<span>(PMIC)</span>를 <span>DIMM(Dual In-line Memory Module) </span>기판에 직접 탑재해<span>, </span>모듈 차원에서<span> 30%</span>의 전력 효율을 이루는 등 전력 공급 안정성을 향상한 것도 강점이다<span>. DDR5</span>의 주 응용처인 데이터센터는 서버의 구동과 냉각에 많은 전력을 소모하는 만큼<span>, </span>고성능 대비 저전력 메모리는 필수적이다<span>. </span>올해 <span>3</span>분기 이후부터 서버 향 <span>D</span>램이 <span>DDR5</span>로 본격 교체될 것으로 예상되면서<span>, DDR5</span>는 데이터센터 업체의 운영 비용 효율화뿐 아니라<span>, </span>환경을 위한 지속 가능한 발전에도 기여할 것으로 기대된다<span>.</span></p>
<p>속도<span>, </span>용량<span>, </span>친환경성에 이르기까지<span>, D</span>램의 성능 제한을 뛰어넘어 데이터 중심의 혁신을 주도하게 될 핵심 제품<span>, ‘DDR5’. </span></p>
<p>DDR5가 열어 갈 새로운 차원의 세상을 아래 영상으로 만나보자<span>.</span></p>
<div class="youtube_wrap"><iframe title="DDR5: Unlimit the limit l Samsung" src="https://www.youtube.com/embed/hZXk45nVJkU?rel=0" allowfullscreen="allowfullscreen"><span data-mce-type="bookmark" style="width: 0px;overflow: hidden;line-height: 0" class="mce_SELRES_start"></span><span data-mce-type="bookmark" style="width: 0px;overflow: hidden;line-height: 0" class="mce_SELRES_start"></span><span data-mce-type="bookmark" style="width: 0px;overflow: hidden;line-height: 0" class="mce_SELRES_start"><span data-mce-type="bookmark" style="width: 0px;overflow: hidden;line-height: 0" class="mce_SELRES_start">﻿</span></span></iframe></div>
<hr />
<div class="footnotes">
<p class="footnotes"><a href="#_ftnref1" name="_ftn1">[1]</a>서버용 모듈 기준</p>
</div>
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																				</item>
					<item>
				<title>삼성전자, 업계 최선단 14나노 EUV DDR5 D램 양산</title>
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				<pubDate>Tue, 12 Oct 2021 11:00:02 +0000</pubDate>
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		<category><![CDATA[D램 양산]]></category>
		<category><![CDATA[EUV]]></category>
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									<description><![CDATA[삼성전자가 EUV(극자외선, Extreme Ultra-Violet) 공정을 적용한 업계 최선단 14나노 D램 양산에 들어갔다. 삼성전자는 2020년 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에게 공급한 바 있으며, 업계에서 유일하게 EUV 멀티레이어 공정을 적용해 최선단 14나노 D램을 구현하는 등 차별화된 공정 기술력을 선보이고 있다. 삼성전자는 반도체 회로를 보다 세밀하게 구현할 수 있는 EUV 노광 기술을 적용해 D램의 […]]]></description>
																<content:encoded><![CDATA[<p>삼성전자가 EUV(극자외선, Extreme Ultra-Violet) 공정을 적용한 업계 최선단 14나노 D램 양산에 들어갔다.</p>
<p>삼성전자는 2020년 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에게 공급한 바 있으며, 업계에서 유일하게 EUV 멀티레이어 공정을 적용해 최선단 14나노 D램을 구현하는 등 차별화된 공정 기술력을 선보이고 있다.</p>
<p>삼성전자는 반도체 회로를 보다 세밀하게 구현할 수 있는 EUV 노광 기술을 적용해 D램의 성능과 수율을 향상시켜, 14나노 이하 D램 미세 공정 경쟁에서 확고한 우위를 확보해 나갈 계획이다.</p>
<p>5개의 레이어에 EUV 공정이 적용된 삼성전자 14나노 D램은 업계 최고의 웨이퍼 집적도로 이전 세대 대비 생산성이 약 20% 향상됐다.</p>
<p>또한, 삼성전자 14나노 D램 제품의 소비전력은 이전 공정 대비 약 20% 개선됐다.</p>
<p>삼성전자는 이번 신규 공정을 최신 DDR5(Double Data Rate 5) D램에 가장 먼저 적용한다.</p>
<p>DDR5는 최고 7.2Gbps의 속도로 DDR4 대비 속도가 2배 이상 빠른 차세대 D램 규격으로 최근 인공지능, 머신러닝 등 데이터를 이용하는 방식이 고도화 되면서 데이터센터, 슈퍼컴퓨터, 기업용 서버 시장 등에서 고성능 DDR5에 대한 수요가 지속 커지고 있다.</p>
<p>삼성전자는 업계 최선단의 14나노 공정과 높은 성숙도의 EUV 공정기술력을 기반으로 차별화된 성능과 안정된 수율을 구현해, DDR5 D램 대중화를 선도한다는 전략이다.</p>
<p>또한 삼성전자는 고용량 데이터 시장 수요에 적극 대응하기 위해 이번 공정으로 단일 칩 최대 용량인 24Gb D램까지 양산할 계획이다.</p>
<p>삼성전자 메모리사업부 D램개발실장 이주영 전무는 “삼성전자는 지난 30년간 끊임없는 기술 혁신을 통해, 반도체 미세 공정의 한계를 극복해 왔으며, 이번에도 가장 먼저 멀티레이어에 EUV 공정을 적용해 업계 최선단의 14나노 공정을 구현했다”며, “고용량, 고성능 뿐만 아니라 높은 생산성으로 5G·AI·메타버스 등 빅데이터 시대에 필요한 최고의 메모리 솔루션을 공급해 나가겠다”고 밝혔다.</p>
<p><img class="alignnone size-full wp-image-422945" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/10/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-%EC%97%85%EA%B3%84-%EC%B5%9C%EC%84%A0%EB%8B%A8-14%EB%82%98%EB%85%B8-D%EB%9E%A8-%EC%96%91%EC%82%B0-1-2.jpg" alt="EUV DDR5 D램이 놓여 있는 모습" width="1000" height="708" /></p>
<p><img class="alignnone size-full wp-image-422946" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/10/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-%EC%97%85%EA%B3%84-%EC%B5%9C%EC%84%A0%EB%8B%A8-14%EB%82%98%EB%85%B8-D%EB%9E%A8-%EC%96%91%EC%82%B0-2.jpg" alt="EUV DDR5 D램이 비스듬히 놓여 있는 모습" width="1000" height="708" /></p>
<p><img class="alignnone size-full wp-image-422947" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/10/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-%EC%97%85%EA%B3%84-%EC%B5%9C%EC%84%A0%EB%8B%A8-14%EB%82%98%EB%85%B8-D%EB%9E%A8-%EC%96%91%EC%82%B0-3.jpg" alt="SAMSUNG DDR5" width="1000" height="708" /></p>
<div id="attachment_422948" style="width: 1010px" class="wp-caption alignnone"><img loading="lazy" aria-describedby="caption-attachment-422948" class="wp-image-422948 size-full" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/10/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-%EC%97%85%EA%B3%84-%EC%B5%9C%EC%84%A0%EB%8B%A8-14%EB%82%98%EB%85%B8-D%EB%9E%A8-%EC%96%91%EC%82%B0-4.jpg" alt="제품 상세 이미지" width="1000" height="708" /><p id="caption-attachment-422948" class="wp-caption-text">▲ 삼성전자 업계 최선단 14나노 DDR5 D램</p></div>
]]></content:encoded>
																				</item>
					<item>
				<title>삼성전자, DDR5 D램 모듈용 전력관리반도체 공개</title>
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				<pubDate>Tue, 18 May 2021 11:00:13 +0000</pubDate>
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									<description><![CDATA[삼성전자가 최신 DDR5 D램 모듈의 성능을 극대화하고 전력 사용을 최소화하는 전력관리반도체(PMIC, Power Management IC) 3종을 공개하며, 시스템반도체 라인업을 본격 확대한다. 삼성전자는 2010년 전력관리반도체 분야에 처음 진출한 이후 스마트폰, 태블릿 등 모바일용 제품과 PC, 게임기, 무선 이어폰에 탑재되는 전력관리반도체를 출시하고 있다. 삼성전자 전력관리반도체 3종(S2FPD01, S2FPD02, S2FPC01)은 DDR5 D램 모듈에 탑재돼 D램의 성능 향상과 함께 동작 전력을 […]]]></description>
																<content:encoded><![CDATA[<p>삼성전자가 최신 DDR5 D램 모듈의 성능을 극대화하고 전력 사용을 최소화하는 전력관리반도체(PMIC, Power Management IC) 3종을 공개하며, 시스템반도체 라인업을 본격 확대한다.</p>
<p>삼성전자는 2010년 전력관리반도체 분야에 처음 진출한 이후 스마트폰, 태블릿 등 모바일용 제품과 PC, 게임기, 무선 이어폰에 탑재되는 전력관리반도체를 출시하고 있다.</p>
<p>삼성전자 전력관리반도체 3종(S2FPD01, S2FPD02, S2FPC01)은 DDR5 D램 모듈에 탑재돼 D램의 성능 향상과 함께 동작 전력을 감소시키는 핵심 반도체로 활용될 것으로 기대된다.</p>
<p>전력관리반도체를 외부 기판에 탑재하던 DDR4 D램와 달리, 최신 DDR5 D램부터는 전력관리반도체를 D램 모듈 기판에 직접 탑재한다. 전력관리반도체와 D램이 하나의 모듈에 위치하기 때문에 전원을 안정적이고 빠르게 공급할 수 있어 메모리 성능 향상과 동시에 오작동을 최소화할 수 있다.</p>
<p>삼성전자는 자체 설계 기술인 ‘비동기식 2상 전압 강하 제어 회로(Asynchronous based dual phase buck control scheme)’를 적용해 전압의 변화를 실시간으로 빠르게 감지하고 출력 전압을 일정하게 유지하게 했다.</p>
<p>이 기술을 통해 전력관리반도체는 초고속 DDR5 D램의 데이터 읽기, 쓰기 속도를 더욱 안정적으로 지원할 수 있고, 기존에 전압을 일정하게 유지하기 위해 탑재하던 적층세라믹콘덴서(MLCC)의 사용량도 줄일 수 있어 D램 모듈 설계 편의성이 높아졌다.</p>
<p>삼성전자는 엔터프라이즈용 전력관리반도체(S2FPD01, S2FPD02)에 출력 전압을 효율적으로 조정하는 자체 설계 방식인 하이브리드 게이트 드라이버(Hybrid Gate Driver)를 적용해 전력효율을 업계 표준보다 1% 포인트 높은 91%까지 향상시켰다.</p>
<p>한편, 데스크탑, 랩탑 등 클라이언트용 DDR5 D램 모듈에 탑재되는 전력관리반도체(S2FPC01)에는 저전력 90나노(nm, nanometer)공정을 적용해 칩 면적을 줄였다.</p>
<p>삼성전자 시스템LSI사업부 마케팅팀 조장호 상무는 “삼성전자는 모바일과 디스플레이, SSD(Solid State Drive) 전력관리반도체에서 쌓은 설계 기술력과 노하우를 데이터센터, 엔터프라이즈 서버와 PC 등에 탑재되는 DDR5 D램 메모리 모듈에도 적용했다”며 “D램용 전력관리반도체 라인업을 지속 강화하며 기술 리더십을 확대하겠다”고 말했다.</p>
<p><img loading="lazy" class="alignnone wp-image-418709 size-full" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/05/%EC%9D%B4%EB%AF%B8%EC%A7%80-%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-DDR5-D%EB%9E%A8-%EB%AA%A8%EB%93%88%EC%9A%A9-%EC%A0%84%EB%A0%A5%EA%B4%80%EB%A6%AC%EB%B0%98%EB%8F%84%EC%B2%B4_1-2.jpg" alt="[이미지] 삼성전자 DDR5 D램 모듈용 전력관리반도체가 나란히 놓여 있다." width="1000" height="714" /></p>
<p><img loading="lazy" class="alignnone wp-image-418710 size-full" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/05/%EC%9D%B4%EB%AF%B8%EC%A7%80-%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-DDR5-D%EB%9E%A8-%EB%AA%A8%EB%93%88%EC%9A%A9-%EC%A0%84%EB%A0%A5%EA%B4%80%EB%A6%AC%EB%B0%98%EB%8F%84%EC%B2%B4_2.jpg" alt="[이미지] 삼성전자 DDR5 D램 모듈용 전력관리반도체를 핀셋으로 집은 모습" width="1000" height="714" /></p>
<div id="attachment_418711" style="width: 1010px" class="wp-caption alignnone"><img loading="lazy" aria-describedby="caption-attachment-418711" class="wp-image-418711 size-full" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/05/%EC%9D%B4%EB%AF%B8%EC%A7%80-%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-DDR5-D%EB%9E%A8-%EB%AA%A8%EB%93%88%EC%9A%A9-%EC%A0%84%EB%A0%A5%EA%B4%80%EB%A6%AC%EB%B0%98%EB%8F%84%EC%B2%B4_3.jpg" alt="[이미지] 삼성전자 DDR5 D램 모듈용 전력관리반도체를 핀셋으로 집어 손에 올려 놓는 모습" width="1000" height="714" /><p id="caption-attachment-418711" class="wp-caption-text">▲ 삼성전자 DDR5 D램 모듈용 전력관리반도체</p></div>
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																				</item>
					<item>
				<title>삼성전자, 업계 최초 HKMG 공정 적용 고용량 DDR5 메모리 개발</title>
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				<pubDate>Thu, 25 Mar 2021 11:00:03 +0000</pubDate>
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						<category><![CDATA[반도체]]></category>
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		<category><![CDATA[HKMG]]></category>
		<category><![CDATA[메모리]]></category>
                <guid isPermaLink="false">https://bit.ly/3slo6Y5</guid>
									<description><![CDATA[삼성전자가 업계 최초로 ‘하이케이 메탈 게이트 (High-K Metal Gate, 이하 HKMG)’ 공정을 적용한 업계 최대 용량의 512GB DDR5 메모리 모듈을 개발했다. DDR5는 차세대 D램 규격으로 기존의 DDR4 대비 2배 이상의 성능이며, 향후 데이터 전송속도가 7200Mbps로도 확장될 전망이다. 이는 1초에 30GB 용량의 UHD 영화 2편 정도를 처리할 수 있는 속도이다. 삼성전자가 이번에 개발한 고용량 DDR5 모듈은 […]]]></description>
																<content:encoded><![CDATA[<p>삼성전자가 업계 최초로 ‘하이케이 메탈 게이트 (High-K Metal Gate, 이하 HKMG)’ 공정을 적용한 업계 최대 용량의 512GB DDR5 메모리 모듈을 개발했다.</p>
<p>DDR5는 차세대 D램 규격으로 기존의 DDR4 대비 2배 이상의 성능이며, 향후 데이터 전송속도가 7200Mbps로도 확장될 전망이다. 이는 1초에 30GB 용량의 UHD 영화 2편 정도를 처리할 수 있는 속도이다.</p>
<p>삼성전자가 이번에 개발한 고용량 DDR5 모듈은 업계 최고 수준의 고용량ㆍ고성능ㆍ저전력을 구현해, 차세대 컴퓨팅, 대용량 데이터센터, 인공지능 등 첨단산업 발전의 핵심 솔루션 역할을 할 것으로 기대된다.</p>
<p>이번에 개발된 DDR5 메모리는 메모리 반도체 공정의 미세화에 따른 누설 전류를 막기 위해 유전율 상수(K)가 높은 물질을 공정에 적용해 고성능과 저전력을 동시에 구현한 것이 특징이다.</p>
<p>HKMG가 적용된 삼성전자 DDR5 메모리 모듈은 기존 공정 대비 전력 소모가 약 13% 감소해, 데이터센터와 같이 전력효율이 중요한 응용처에서 최적의 솔루션이 될 것으로 기대된다.</p>
<p>또한 이번 제품에는 범용 D램 제품으로는 처음으로 8단 TSV(Through Silicon Via, 실리콘 관통 전극) 기술이 적용됐다.</p>
<p>삼성전자는 고용량 메모리 시장의 확대와 데이터 기반 응용처의 확산에 따라 16Gb(기가비트) 기반으로 8단 TSV 기술을 적용해 DDR5 512GB 모듈을 개발했다.</p>
<p>삼성전자는 2014년 세계 최초로 범용 D램인 DDR4 메모리에 4단 TSV 공정을 적용해 64GB에서 256GB까지 고용량 모듈 제품을 서버 시장에 선보인 바 있다.</p>
<p>삼성전자 메모리사업부 상품기획팀 손영수 상무는 “삼성전자는 메모리 반도체와 시스템 반도체 기술 경쟁력을 바탕으로 업계 최초로 HKMG 공정을 메모리 반도체에 적용했다”며, “이러한 공정 혁신을 통해 개발된 DDR5 메모리는 뛰어난 성능과 높은 에너지 효율로 자율주행, 스마트시티, 의료산업 등으로 활용 분야가 확대될 고성능 컴퓨터의 발전을 더욱 가속화시킬 것으로 기대된다”고 밝혔다.</p>
<p>인텔 메모리 & IO 테크놀로지 총괄 VP 캐롤린 듀란(Carolyn Duran)은 “처리해야 할 데이터양이 기하급수적으로 늘어나는 클라우드 데이터센터, 네트워크, 엣지 컴퓨팅 등에서 차세대 DDR5 메모리의 중요성이 대두되고 있다”며, “인텔은 인텔 제온 스케일러블 (Intel® Xeon® Scalable) 프로세서인 사파이어 래피즈(Sapphire Rapids)와 호환되는 DDR5 메모리를 선보이기 위해 삼성전자와 긴밀하게 협력하고 있다”고 밝혔다.</p>
<p>삼성전자는 HKMG 공정과 8단 TSV 기술이 적용된 고용량 DDR5 메모리를 차세대 컴퓨팅 시장의 고객 수요에 따라 적기에 상용화할 계획이다.</p>
<p><img loading="lazy" class="alignnone size-full wp-image-417185" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/03/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-512GB-DDR5-%EB%AA%A8%EB%93%88_1.jpg" alt="정면으로 보이는 삼성전자 512GB DDR5" width="1000" height="708" /> <img loading="lazy" class="alignnone size-full wp-image-417186" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/03/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-512GB-DDR5-%EB%AA%A8%EB%93%88_2.jpg" alt="측면으로 보이는 삼성전자 512GB DDR5" width="1000" height="708" /></p>
<div id="attachment_417187" style="width: 1010px" class="wp-caption alignnone"><img loading="lazy" aria-describedby="caption-attachment-417187" class="size-full wp-image-417187" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/03/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-512GB-DDR5-%EB%AA%A8%EB%93%88_3-2.jpg" alt="2개의 삼성전자 512GB DDR5이 놓여진 모습" width="1000" height="708" /><p id="caption-attachment-417187" class="wp-caption-text">▲ 삼성전자 512GB DDR5</p></div>
<div id="attachment_417188" style="width: 1010px" class="wp-caption alignnone"><img loading="lazy" aria-describedby="caption-attachment-417188" class="wp-image-417188 size-full" src="https://img.kr.news.samsung.com/kr/wp-content/uploads/2021/03/%EC%82%BC%EC%84%B1%EC%A0%84%EC%9E%90-DDR5-%EC%9D%B8%ED%8F%AC%EA%B7%B8%EB%9E%98%ED%94%BD.jpg" alt="D램의 구조  트랜지스터 캐패시터 D램 내부는 트랜지스터와 캐패시타로 구성됨.  캐패시터는 전하를 저장하는 역할을 하며, 트랜지스터는 캐패시터의 입구를 여닫는 스위치의 역할을 함.  캐패시터에 전화가 저장되어 있을때는 ‘1’, 없을 때는 ‘0’으로 인식함으로써 데이터를 저장할 수 있음.  D램 트랜지스터의 구조  게이트 절연막 소스(Source) 전자의 흐름 드레인(Drain) 기판(Silicon substrate) 트랜지스터 내부에는 소스(Source)와 드레인(Drain)이 있으며, 전압이 거리면 잔자가 소스에서 드레인으로 이동해 전류가 흐르게 됨.  절연막은 전자의 누설을 방지하는 역할을 하며, 그 층이 두꺼울수록 절연 효과가 큼.   세계 최초로 DDR5에 HKMG 공정 적용  Poly-Si pSiON S D Silicon substrate 기존 구조 Metal High-K S D  Silicon substrate HKMG 구조 기존에는 D램 절연막에 pSiON 물질을 사용해 왔음.  공정의 미세화로 트랜지스터 크기가 작아짐에 따라 절연막의 두께도 함께 감소해 왔으나, 두께가 너무 얇아짐에 따라 누설 전류 증가와 신뢰성 저하가 일어날 수 있다는 이슈 발생.  삼성전자 DDR5는 절연 효과가 높은 High-K 물질을 절연막에 적용해 두께는 줄이면서도 누설 전류를 줄여 신뢰성을 높임.  High-K 물질과 함께 사용하기 적합한 Metal Gate로 변경.  High-K는 유전 상수 K가 큰 물질 즉 유전율이 높은 물질을 의미함 High-K+Metal Gate를 함께 HKMG 공정이라고 일컬음.   HKMG 공정 적용으로 저전압(1.1V)에서도 고성능을 구현할 수 있어 전력 효율을 높여 기존 겅정 대비 전력 소모를 13%나 감소시키고 향후 절연막 두께를 더욱 축소할 수 있는 토대를 마련함.   고성능과 저전력 특성이 동시에 필요한 응용처에 최고의 솔루션을 제공.   데이터 시대를 위한 첨단 솔루션 DDR5   최고 전송속도(Mbps) 7200 3200 2133 1066 400 DDR SDRAM(1997) DDR2(2001) DDR3(2005) DDR4(2010) DDR5(2020) * 각 세대별 최초 개발 연도  최고 전송속도가 DDR4의 3200Mbps의 두배 이상인 7200Mbps에 달해 클라우드 데이터 센터, 네트워크 및 엣지 컴퓨팅 분야 등 데이터처리량이 급증하고 있는 IT 분야에 최적의 솔루션을 제공.    모듈 최대 용량(GB) 512 256 32 8 2 DDR SDRAM(1997) DDR2(2001) DDR3(2005) DDR4(2010) DDR5(2020) * 각 세대별 최초 개발 연도   세계 최초로 8단 TSV 기술을 활용해 512GB DDR5 모듈을 구현함으로써, 고용량 솔루션을 요구하는 데이터 센터, 슈퍼컴퓨터 및 차세대 컴퓨팅 분야 고객 니즈에 완벽히 부합하는 포트폴리오 제공." width="1000" height="3875" /><p id="caption-attachment-417188" class="wp-caption-text">▲ 인포그래픽</p></div>
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