삼성전자, ‘삼성 파운드리 포럼 2019’ 개최

2019/05/15

삼성전자가 14일(현지시간) 미국 산타클라라 메리어트 호텔에서 '삼성 파운드리 포럼 2019(Samsung Foundry Forum 2019)'를 개최하고 '차세대 3나노 GAA 공정'과 새로운 고객 지원 프로그램인 'SAFE™-Cloud'를 소개했다.

□ 3나노 GAA 공정 설계 키트 제공… 설계 최적화 지원

삼성전자는 지난해 GAA(Gate-All-Around)를 3나노 공정에 도입하겠다고 공개한데 이어 올해 포럼에서는 3GAE(3나노 Gate-All-Around Early)의 공정 설계 키트(PDK v0.1, Process Design Kit)를 팹리스 고객들에게 배포했다고 밝혔다.
※ 3GAE(3나노 Gate-All-Around Early) / 3GAP(3나노 Gate-All-Around Plus) - 3나노 GAA 공정에서 1세대를 Early, 이후 성능과 전력이 개선된 2세대를 Plus라고 칭함

▲ 5월 14일(현지시간) 미국 산타클라라에서 열린 ‘삼성 파운드리 포럼 2019’에서 삼성전자 파운드리 사업부 정은승 사장이 기조 연설을 하고 있다.

*자세한 내용은 삼성전자 뉴스룸(http://bit.ly/2Mjsjrd)에서 확인하실 수 있습니다.