半導體的高效能低功耗特性取決於插入晶片上有限空間的電路寬度。為此，EUV能實現比現行氬氟（ArF）波長更精細的半導體電路曝光，並降低多重曝光製程的複雜性，同時達成高效能及高生產力。

三星EUV

技術預期可加速各類革命性產品的成長，例如5G、人工智慧和物聯網。請參考資訊圖表，深入瞭解EUV及預期此技術將如何推動半導體科技。