Samsung Electronics приступает к серийному производству чипов на новой EUV линии

Производственные мощности Samsung по выпуску 7-нм чипов с применением технологии EUV-литографии увеличатся к концу 2020 года в три раза. Компания планирует начать поставки первых мобильных чипов по 7- и 6-нм техпроцессу, выпущенных на линии V1, уже в первом квартале этого года

Компания Samsung Electronics, мировой лидер в области передовых полупроводниковых технологий, объявила о запуске серийного производства на новой линии по выпуску полупроводников в Хвасоне (Hwaseong), Корея.

Производственная линия V1 является первой линией Samsung, специализирующейся исключительно на выпуске полупроводников с применением технологии EUV (литографии в глубоком ультрафиолете, extreme ultraviolet), и производит чипы с использованием функциональных узлов, выполненных по 7-нанометровому и еще более тонким техпроцессам. Линия V1 была основана в феврале 2018 года, а тестовое производство полупроводниковых пластин было запущено во второй половине 2019 года. Первые партии продукции, выпущенные на этой линии, поступят заказчикам в первом квартале 2020 года.

«Наряду с технологическим лидерством и развитием проектной инфраструктуры одним из важнейших элементов полупроводникового бизнеса является совершенствование производства, – говорит д-р Юнг (ES Jung), президент и глава полупроводникового производства в Samsung Electronics. – Сегодня, когда мы наращиваем производство, запуск линии V1 поможет нам лучше реагировать на рыночный спрос и расширит возможности компании для поддержки наших клиентов».

Линия V1 в настоящее время производит современные мобильные чипы по 7-нм и 6-нм техпроцессу, при этом компания намерена продолжать работу по уменьшению техпроцесса вплоть до 3 нм.

К концу 2020 года совокупный объем инвестиций в линию V1 в соответствии с планом Samsung достигнет 6 млрд долларов США, а общий объем производства продукции, выполненной по 7-нм техпроцессу и ниже, увеличится в три раза от уровня 2019 года. Компания рассчитывает, что вместе с линией S3, линия V1 будет играть ключевую роль в способности компании реагировать на быстрорастущий глобальный спрос на полупроводниковую продукцию, выполненную с использованием технологических процессов ниже 10 нм.

По мере дальнейшего уменьшения габаритов полупроводниковых устройств внедрение технологии литографии в глубоком ультрафиолете обретает все более важное значение для отрасли, поскольку эта технология позволяет продолжить дальнейшую миниатюризацию сложных схем на пластине и предложить оптимальные решения для новых применений, таких как сети 5-го поколения, искусственный интеллект и автомобильная электроника.

С учетом введенной в эксплуатацию линии V1 сегодня Samsung имеет в общей сложности шесть полупроводниковых производств в Южной Корее и в США, в том числе пять линий с использованием 12-дюймовых подложек и одну линию с использованием 8-дюймовых подложек (см. ниже).

* Глобальные полупроводниковые производства Samsung