三星成功完成5奈米EUV製程研發 實現更高的面積效率及超低功耗

EUV製程節點獲得重大進展 包括7奈米量產與6奈米客戶設計定案

全球先進半導體技術領導品牌三星電子近期宣布，已完成5奈米FinFET製程技術的研發，且已準備好向客戶提供樣品。三星在採用極紫外線(EUV)微影技術的製程中，添加另一個尖端製程節點，再次展現其在先進晶圓代工市場的領導地位。

相較於7奈米製程，三星的5奈米FinFET製程技術經過改良，能提升25%的邏輯晶片效率，減少20%的功耗，提高10%的性能，使三星擁有更創新性的標準單元架構。

從7奈米跨越到5奈米製程，除了在性能、功耗和面積(PPA)上獲得改善之外，客戶還能充份利用三星已高度發展的EUV技術。和前世代的製程一樣，5奈米製程在金屬膜使用EUV微影技術，能減少光罩層數、提供更佳的保真度。

5奈米製程的另一個關鍵優勢，是它能重複使用7奈米技術的所有智慧財產權(IP)。因此，當客戶從7奈米轉換至5奈米時，將能大幅降低遷移成本、擁有預先驗證的設計生態圈，進而大幅縮短5奈米產品的開發週期。

三星晶圓代工(Samsung Foundry)與 ｢三星晶圓代工SAFE 生態圈(SAFETM)｣ 夥伴建立密切的合作關係，自2018年第4季度起，為三星5奈米製程提供強大的設計基礎架構，包括製程設計套件(PDK)、設計方法(DM)、電子設計自動化(EDA)工具和IP。此外，三星晶圓代工(Samsung Foundry)已開始向客戶提供5奈米Multi Project Wafer(MPW)的服務。

三星電子晶圓事業執行副總裁Charlie Bae表示：「成功完成5奈米製程的研發，證明了三星在EUV節點的強大科研能力。為滿足客戶對先進製程技術日益殷切的需求，突顯其下世代產品的差異性，我們繼續加速EUV技術的量產腳步。」

2018年10月，三星宣佈準備投入7奈米製程的量產，這是三星首次採用EUV微影技術的製程節點。三星已針對首批基於EUV技術的新產品，領先業界為客戶提供商用樣品，並已於年初投入7奈米製程的量產。

此外，三星亦與客戶合作開發6奈米的客製化EUV製程節點，首款6奈米晶片已完成設計定案。

Charlie Bae繼續補充：「考量到5奈米製程技術的諸多優勢，包括PPA和IP等，預計諸如5G、人工智慧(AI)、高效能運算(HPC)及自駕車等創新應用，將對這項製程技術產生高度的需求。憑藉三星的強大的技術競爭力，包括我們在EUV微影技術領域的領先地位，三星將繼續向客戶提供最先進的技術和解決方案。」

三星晶圓代工(Samsung Foundry)的EUV製程技術，目前於韓國華城工廠的S3生產線投入製造。此外，三星亦將擴充EUV產能，於華城佈署全新的EUV生產線，預定將於2019年下半年完工，於明年正式啟用並投入量產。