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三星電子以先進晶圓製程領導技術 展現最新矽晶圓技術創新及生態系統平台

on 27.05.2019
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全新3GAE PDK協助客戶提升初期設計工作的競爭力
SAFE™雲端平台提供可靠的統包設計環境 加速無廠公司和設計公司的工作流程

全球先進半導體技術領導品牌三星電子(15日)於2019美國三星晶圓代工論壇,發表對製程創新及服務的承諾,為矽晶圓產業帶來最新技術的更新消息,並支援目前與未來最高要求的應用。
 
這場在美國加州聖塔克拉拉舉行的活動,邀請三星電子高階主管和產業專家一同探討半導體技術及製程平台解決方案的發展,涵蓋人工智慧(AI)、機器學習、5G網路、汽車、物聯網 (IoT)、先進資料中心及眾多其他領域之開發。
 
三星電子晶圓代工業務總裁ES Jung博士表示:「我們站在第四次工業革命的前端,這是一個高效能運算和連線能力的新時代,將會提升全球所有人的生活品質。」
 
「三星電子完全理解要實踐強大可靠的矽晶圓解決方案,不僅需要最先進的製造和封裝製程以及設計解決方案,還需要與值得信任和具有共同願景的廠商建立合作關係。今年的代工論壇,充分展現我們在所有領域推動發展的承諾,三星電子也很榮幸能主持此次的論壇,並與業界的精英們交流」,Jung博士補充道。
 
美國晶圓代工論壇重點精華:
 

全新3奈米 GAE PDK 0.1版已就緒

三星3奈米環繞式閘極(GAA)結構:3GAE開發依照計畫進行中。三星電子指出其3GAE製程設計套件(PDK) 0.1版已於四月推出,協助客戶及早開始設計工作,以及提升設計競爭力和縮短整備時間(TAT)。
 
與7奈米技術相較,三星3GAE製程設計最高可縮小晶片面積達45%,搭配降低50%的耗能及提升 35%的效能。以GAA為基礎的製程節點,預估將在新一代應用中廣泛採用,例如行動、網路、汽車、人工智慧(AI)和IoT物聯網。
 
以奈米線為基礎的傳統GAA,由於其有效通道寬度較小,因此需要的堆疊數量較大。另一方面,三星專利GAA:MBCFET™(多重橋接型通道FET)採用的是奈米片結構,為每個堆疊提供更高的電流。
 
雖然鰭式場效電晶體 (FinFET)必須以離散方式調變鰭數,MBCFET™ 是透過控制奈米片寬度來提供更高的設計彈性。此外,MBCFET™ 與 FinFET製程的相容性代表兩者能共用相同的製造技術和設備,藉此加速製程開發與提升產量。
 

 
三星近期已公布3GAE測試載具設計,未來將專注於提升其效能及功率效率。
 
如需更多資訊,請參考三星電子新聞中心連結內的GAA圖表和影片。
 

最新SAFE™ 雲端計畫啟動

為持續支援及提升客戶的整體設計工作流程,三星電子啟動「三星先進製程生態系統雲端 (SAFE™-Cloud) 計畫」,透過與Amazon Web Services(AWS)和Microsoft Azure等主要公共雲端服務供應商,及Cadence和Synopsys等電子設計自動化(EDA)領導廠商合作,為客戶提供更具彈性的設計環境。
 
至今,多數的代工客戶能在自有伺服器上構建和管理設計基礎架構。SAFE™ 雲端計畫將藉由豐富的製程資訊(PDK、設計方法)、EDA工具、設計資產(IP、資料庫)和設計服務來提供更卓越的統包式代工設計環境,減輕這方面的負擔並支援更簡單、更快速、及更有效率的設計流程。
 
現在,無論客戶需要再大的伺服器及儲存空間,都能滿足其需求,透過三星電子認證的SAFE™ 雲端安全性、適用性和擴充性,獲得專為晶片設計最佳化的安全環境。
 
經由SAFE™ 雲端平台,三星電子加速了與Synopsys合作7奈米和5奈米元件庫的開發。此外,三星、Gaonchips(韓國無廠設計公司)也和Cadence成功在此平台完成設計驗證。
 
Gaonchips執行長Kyu Dong Jung指出:「對我們這樣的公司而言,針對高效能運算(HPC)伺服器和系統進行前期投資是一項挑戰」。SAFE™ 雲端提供我們非常靈活的設計環境,無需額外投資基礎設施,更縮短了設計TAT。我預期這項計畫將為我們和整個無廠產業,提供更實質的商業及技術優勢。」
 

製程科技藍圖和先進封裝技術更新

三星電子的藍圖包括應用極紫外線(EUV)技術、從7奈米到 4奈米等四種FinFET製程,以及 3奈米 GAA,或MBCFET™。
 
今年下半,三星電子計畫將開始6奈米製程裝置的量產,並完成4奈米製程的開發。
 
三星電子計畫於四月開發5奈米FinFET製程的產品設計,預計於今年下半完成,並於2020年上半進行量產。
 
三星的FD-SOI (FDS)製程和eMRAM之拓展,以及一系列先進的封裝解決方案,皆在今年的代工論壇上發表。此外,28FDS製程、18FDS以及具有1Gb容量eMRAM的繼任者開發也都將在今年完成。
 

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