【圖表解析】EUV：三星新一代半導體產品開發最新投資
三星電子針對極紫外線（EUV）微影技術的大規模投資，聲勢日漸趨高。三星近期開始採用EUV生產7LLP，即7奈米（nm）LLP（Low Power Plus），穩坐產業領導地位，並為朝向更精細的3nm製程節點鋪路。
半導體的高效能低功耗特性取決於插入晶片上有限空間的電路寬度。為此，EUV能實現比現行氬氟（ArF）波長更精細的半導體電路曝光，並降低多重曝光製程的複雜性，同時達成高效能及高生產力。
三星EUV
技術預期可加速各類革命性產品的成長，例如5G、人工智慧和物聯網。請參考資訊圖表，深入瞭解EUV及預期此技術將如何推動半導體科技。
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