【圖表解析】EUV:三星新一代半導體產品開發最新投資

18.10.2018
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三星電子針對極紫外線(EUV)微影技術的大規模投資,聲勢日漸趨高。三星近期開始採用EUV生產7LLP,即7奈米(nm)LLP(Low Power Plus),穩坐產業領導地位,並為朝向更精細的3nm製程節點鋪路。

 

半導體的高效能低功耗特性取決於插入晶片上有限空間的電路寬度。為此,EUV能實現比現行氬氟(ArF)波長更精細的半導體電路曝光,並降低多重曝光製程的複雜性,同時達成高效能及高生產力。

 

三星EUV

技術預期可加速各類革命性產品的成長,例如5G、人工智慧和物聯網。請參考資訊圖表,深入瞭解EUV及預期此技術將如何推動半導體科技。

 

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