삼성전자, 세계 최대 규모 평택 반도체 라인 가동

2017/07/04
공유 레이어 열기/닫기
주소가 복사되었습니다.

삼성전자가 평택 반도체 라인 본격 가동과 함께 반도체ㆍ디스플레이 생산라인 증설 등 37조 원 이상의 투자를 추진, 부품 사업 경쟁력을 확보하고 일자리 창출과 IT 전후방 산업 육성에 앞장선다. 

이러한 대규모 투자에 따라 직간접적인 경제 파급효과를 고려하면 2021년까지 ‘생산유발효과163조 원’,  ‘고용유발효과 44만 명’이 예상된다. 
※ 출처: 한국은행 산업연관표, 생산유발/고용유발 계수 기준

삼성전자는 4일 평택 반도체 단지에서 제품 출하식을 갖고 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다. 

이날 출하식에는 권오현 대표이사 부회장, 김기남 반도체총괄 사장, DS부문 각 사업부장 등 주요 경영진과 임직원 100여 명이 참석했다. 

삼성전자 권오현 대표이사 부회장은 격려사를 통해 “평택 반도체 단지는 삼성전자 반도체의 미래를 위한 새로운 도전”이라며, “그 첫 도전을 성공적으로 준비해 준 임직원과 협력사에게 감사의 뜻을 전한다”고 말했다. 

삼성전자의 평택 반도체 라인은 단일 라인 기준 세계 최대 규모로 2015년 5월 착공해 2년 만에 완공됐으며, 건설 현장에 투입된 일 평균 근로자가 1만 2천여 명에 이른다. 

평택 반도체 라인에서 생산되는 제품은 최첨단 4세대 64단 V낸드 제품으로 삼성전자는 이번 가동을 시작으로 지속적인 생산설비 확충을 통해 메모리 시장 경쟁력을 강화한다는 계획이다. 

최근 반도체 시장은 최첨단 제품의 수요확대로 인해 글로벌 IT 고객들이 물량확보에 어려움을 호소하고 있으며, 데이터센터, 빅데이터, AI, 오토모티브 등 다가오는 미래 IT 시장에서도 첨단 반도체 수요는 지속적으로 확대될 전망이다. 

이와 같은 시장 상황을 감안해 삼성전자는 국내외 생산 거점에 적극적인 투자를 추진해 생산능력을 확대하고, 글로벌 IT 고객들의 반도체 수요 확대에 적극적으로 대응해 나갈 계획이다. 

우선 삼성전자는 이번에 가동을 시작한 평택 1라인에 대한 증설에 나선다는 계획으로 기존 투자금액 포함 2021년까지 총 투자 규모가 30조 원에 이를 것으로 예상된다. 

삼성전자는 평택 뿐만 아니라 화성사업장에도 6조 원을 투입, EUV 등 첨단 인프라에 최적화된 신규라인을 확보해 미래 반도체 시장을 준비한다는 전략이다. 또한 삼성전자는 중국 시안(西安)에 반도체 라인 추가 건설을 검토하고 있다.

2014년 완공된 시안(西安) 반도체 라인은 현재 100% 가동중이며, ‘규모의 경제’를 확보하기 위해 추가 라인건설로 낸드플래시 최대 수요처인 중국시장에 대응한다는 전략이다. 

한편 삼성디스플레이는 충남 아산지역에 OLED 신규단지 인프라 건설을 검토중이다. 

삼성디스플레이는 2018년까지 아산 2단지 건설에 착수하기로 한 충청남도와의 단지건설 협약을 준수하고 급변하는 시장상황에 탄력적으로 대응하기 위해 부지 및 인프라 시설 투자를 계획하고 있다. 

삼성전자와 삼성디스플레이의 이번 대규모 투자를 통해 경기도 기흥ㆍ화성ㆍ평택과 충청도 아산에 이르는 첨단 부품 클러스터 구축으로 국내 장비ㆍ소재 산업과의 동반성장은 물론 후방 산업 생태계 활성화를 통해 R&D 및 서비스 등 고급 기술인력 수요도 확대될 전망이다.

삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인(평택 1라인) 외경▲삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인(평택 1라인) 외경

삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인(평택 1라인) 항공사진_현재 및 조성전삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인(평택 1라인) 항공사진_현재 및 조성전▲삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인(평택 1라인) 항공사진_현재 및 조성전

삼성전자 평택캠퍼스에서 생산하는 4세대(64단) 3D V낸드 칩과 이를 기반으로한 메모리 제품삼성전자 평택캠퍼스에서 생산하는 4세대(64단) 3D V낸드 칩과 이를 기반으로한 메모리 제품▲삼성전자 평택캠퍼스에서 생산하는 4세대(64단) 3D V낸드 칩과 이를 기반으로한 메모리 제품

안정수 상무, 백홍주 전무, 진교영 부사장, 김기남 사장, 권오현 부회장, 이상훈 사장,안정수 상무, 백홍주 전무, 진교영 부사장, 김기남 사장, 권오현 부회장, 이상훈 사장,▲삼성전자는 7월 4일 평택 반도체 단지에서 주요 경영진과 임직원 100여 명이 참석한 가운데 제품 출하식을 갖고, 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다. (왼쪽부터) 안정수 상무, 백홍주 전무, 진교영 부사장, 김기남 사장, 권오현 부회장, 이상훈 사장, 황득규 부사장, 정영호 상임위원( 메모리사업부 노사협의회)


삼성전자는 7월 4일 평택 반도체 단지에서 주요 경영진과 임직원 100여명이 참석한 가운데       제품 출하식을 갖고, 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다.삼성전자는 7월 4일 평택 반도체 단지에서 주요 경영진과 임직원 100여명이 참석한 가운데 제품 출하식을 갖고, 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다.  ▲삼성전자는 7월 4일 평택 반도체 단지에서 주요 경영진과 임직원 100여명이 참석한 가운데 제품 출하식을 갖고, 최첨단 3차원 V낸드 양산을 시작했다.

제품뉴스 > 반도체

프레스센터 > 보도자료

프레스센터

삼성전자 뉴스룸의 직접 제작한 기사와 이미지는 누구나 자유롭게 사용하실 수 있습니다.
그러나 삼성전자 뉴스룸이 제공받은 일부 기사와 이미지는 사용에 제한이 있습니다.
<삼성전자 뉴스룸 콘텐츠 이용에 대한 안내 바로가기>

TOP